반도체커스텀레이아웃산업기사 (2008-09-07)
총 80문항
정답과 해설은 문제지에 없어요. CBT에서 확인할 수 있어요.
1.다음 중 4가 원소가 아닌 것은?
- ①탄소(C)
- ②게르마늄(Ge)
- ③인듐(In)
- ④실리콘(Si)
2.JFET에서 게이트에 인가하는 역방향 바이어스의 크기를 크게 하여, 공핍층의 폭이 늘어나 채널이끊기게 되는 현상을 일컫는 용어는?
- ①핀치오프(Pinch-off)
- ②터널효과(Tunnel effect)
- ③제너항복(Zener breakdown)
- ④쇼트키장벽(Schottky barrier)
3.다음 중 FET에 있는 3 단자의 명칭이 아닌 것은?
- ①소스(source)
- ②채널(channel)
- ③드레인(drain)
- ④게이트(gate)
4.PN 접합다이오드의 전기적특성인 정류특성(rectification)이란?
- ①전류를 일정 크기 이상으로는 흐르지 못하게 하는 것이다.
- ②전압의 크기에 관계없이 일정한 크기의 전류를 흐르게 하는 것이다.
- ③한 방향으로 전류가 잘 흐르나, 반대 방향으로는 흐르지 못하게 하는 것이다.
- ④시간이 흐름에 따라, 전류의 크기가 비례적으로 감소하면서 흐르게 하는 것이다.
5.원자번호 14인 Si 원자의 최외각(M각) 전자는 몇 개인가?
- ①1
- ②4
- ③8
- ④10
6.실리콘(Si) NPN 바이폴라 트랜지스터의 순방향 바이어스된 베이스와 이미터 사이의 전압은 어느 정도인가?
- ①0[V]
- ②0.3[V]
- ③0.7[V]
- ④1[V]
7.열평형 상태의 PN 접합에서 캐리어 확산에 의해 전계가 생긴 영역을 일컫는 용어가 아닌 것은?
- ①공핍영역(depletion region)
- ②포화영역(saturation region)
- ③천이영역(transition region)
- ④공간전하영역(space charge region)
8.다음 다이오드 중 역방향 바이어스 항복 전압에 상관없이 정상적으로 동작하는 것은?
- ①정류기(Rectifier)
- ②제너 다이오드(Zener diode)
- ③바랙터 다이오드(Varactor diode)
- ④스위칭 다이오드(Switching diode)
9.PN 접합의 전압-전류 특성에 대한 설명으로 옳은 것은?
- ①금지대 폭이 큰 반도체일수록 항복 전압이 낮다
- ②포화전류가 흐르도록 하는 바이어스 방향은 순방향 바이어스이다.
- ③N 영역이 음(-)이 되도록 외부 전압을 인가하면 포화 전류가 흐른다.
- ④역방향 전압을 점점 증가시켜 가면 어느 임계전압에서 전류가 급증하게 되는데, 이 현상을 항복 현상이라고 한다.
10.PN 접합에 대한 설명으로 옳은 것은?
- ①P형과 N형의 반도체가 같은 물질로 된 것을 헤테로(hetero) 접합이라고 한다.
- ②성장 접합법에서는 접합의 진행과정을 적당히 조절하면 P형에서 갑자기 N형으로 변화 하는 계단형 접합을 구현할 수 있다.
- ③일반적으로 Si 반도체 웨이퍼의 제조는 성장접합법을 이용하며, 웨이퍼 위에 소자를 만들때에는 확산 접합법을 이용한다.
- ④합금 접합법에서는 용융된 실리콘 표면에 종자결정을 접촉시킨 후 서서히 인상하면서 종자결정과 같은 구조로 성장시켜 단결정을 얻는 과정에서 P형 및 N형 불순물을 차례로 넣어주어 PN 접합을 만든다.
11.전계효과트랜지스터(FET)를 단극성 소자라 하는 이유는?
- ①전자와 정공으로 FET가 동작하기 때문이다.
- ②다수 캐리어만으로 FET가 동작하기 때문이다.
- ③소스와 드레인 영역의 성질이 같기 때문이다.
- ④게이트를 중심으로 대칭구조를 갖기 때문이다.
12.순수 반도체에서 전자나 정공의 농도가 같다고 할 때 전도대의 준위 0.9[eV], 가전자대의 준위가 1.6[eV]이면 순수반도체의 에너지 캡은?
- ①2.5[eV]
- ②0.7[eV]
- ③0.9[eV]
- ④0.8[eV]
13.다음 중 N형 반도체를 만들기 위해 필요한 도너(donor) 불순물은?
- ①B
- ②Al
- ③P
- ④In
14.트랜지스터의 증폭계수 α와 β의 관계에서 α가 0.99인 트랜지스터의 β 값은?
- ①49.7
- ②-99
- ③99
- ④2.01
15.P형과 N형 반도체에서 다수 반송자(Carrier)를 옳게 나타낸 것은?
- ①P형: 전자, N형: 전자
- ②P형: 정공, N형: 정공
- ③P형: 전자, N형: 정공
- ④P형: 정공, N형: 전자
16.다음 중 실리콘(Si) 및 게르마늄(Ge)의 결합 구조는?
- ①공유결합
- ②이온결합
- ③수소결합
- ④금속결합
17.단순입방의 구조를 갖는 반도체 재료에서 1개의 셀 당 포함되는 원자의 개수는?
- ①1
- ②2
- ③3
- ④4
18.NMOS FET(n channel MOSFETC NMOSFET)에서 게이트전압을 높이면 드레인과 소스 사이에 전류 ID가 흐르기 시작한다. ID가 흐르기 시작하는 시점의 게이트 전압을 무엇이라고 하는가?
- ①문턱전압
- ②바이어스전압
- ③포화전압
- ④항복전압
19.반도체에서 전자가 원자의 속박으로부터 벗어나 전계에 의해 자유롭게 움직일 수 있는 에너지대는?
- ①가전자대
- ②충만대
- ③금지대
- ④전도대
20.다음 표는 접지형 트랜지스터의 바이어스 방식에 따른 분류이다. ( ) 안에 해당하는 것은?
- ①a : 불포화영역, b : 차단영역
- ②a : 포화영역, b : 불활성영역
- ③a : 차단영역, b : 불활성영역
- ④a : 포화영역, b : 활성영역
21.무부하 출력전압이 24[V]인 전원장치에 부하연결시 출력전압이 22[V]이면 접압 변동률은 약 몇 [%] 인가?
- ①5[%]
- ②7[%]
- ③9[%]
- ④10[%]
22.다음 중 컬렉터 접지 증폭기에 대한 설명으로 적합하지 않은 것은?
- ①이미터 폴로워라고도 한다.
- ②전압 이득을 크게 얻을 수 있다.
- ③입ㆍ출력 전압 위상은 동위상이다.
- ④출력임피던스는 이미터 접지 증폭기보다 낮다.
23.다음 중 피어스 수정 발진회로의 발진주파수 변동 요인으로 가장 적합하지 않은 것은?
- ①부하의 변동
- ②주위 온도의 변화
- ③전원전압의 변동
- ④발진회로의 차폐
24.다음 회로에서 제너 다이오드에 흐르는 전류는 몇 [A]인가? (단, 제너 다이오드의 제너항복전압(Vz)은 10[V]이다.)
- ①0.3[A]
- ②0.4[A]
- ③0.5[A]
- ④0.6[A]
25.다음 중 트랜지스터 증폭기 설계 시 동작점(Q점) 결정에 가장 영향이 적은 것은?
- ①왜곡
- ②최대정격
- ③주파수 특성
- ④입력신호의 크기
26.어떤 증폭기의 전압 증폭도가 100 이고 전류 증폭도가 10일 때 전력이득은 몇 [dB] 인가?
- ①20[dB]
- ②30[dB]
- ③40[dB]
- ④60[dB]
27.다음 그림의 회로 명칭으로 가장 적합한 것은? (단, R1 = R2 = R3 = R4 이다.)
- ①이상기
- ②대수증폭기
- ③차동증폭기
- ④부호변환기
28.이미터 접지 트랜지스터 증폭회로에서 입력신호와 출력신호간의 위상차는 얼마인가?
- ①0°
- ②90°
- ③180°
- ④360°
29.다음 중 구형파를 발생시키는 회로로 적합하지 않은 것은?
- ①슈미트 트리거 회로
- ②클램핑 회로
- ③타이머 555 회로
- ④비안정 멀티바이브레이터
30.차동증폭기에서 공통성분 제거비(CMRR)에 대한 설명 중 옳은 것은?
- ①동상이득이 클수록 CMRR이 커진다.
- ②차동이득이 클수록 CMRR이 커진다.
- ③CMRR은 으로 정의된다.
- ④CMRR이 클수록 차동증폭기의 성능이 좋다.
31.다음 증폭기 회로에서 이미터 저항 RE를 사용하는 이유로 가장 적절한 것은?
- ①회로의 안정화
- ②전압 증폭도의 증가
- ③주파수 대역폭의 감소
- ④전류 증폭도의 증가
32.전압이득의 1000, 왜율이 10[%]인 무궤환 증폭기에 궤환율 β = 0.01의 부궤한을 걸었을 때 왜율은 약 몇 [%] 인가?(오류 신고가 접수된 문제입니다. 반드시 정답과 해설을 확인하시기 바랍니다.)
- ①0.1[%]
- ②0.91[%]
- ③1.0[%]
- ④5.12[%]
33.진폭변조(DSB) 방식에서 변조도를 80[%]로 하면 피변조파의 전력은 반송파 전력의 몇 배가 되는가?
- ①1.1배
- ②1.32배
- ③1.64배
- ④2.16배
34.부궤환 증폭기에서 무궤환 시 증폭도를 A, 궤환 시 증폭도를 Af, 궤환율을 β라 할 때, A가 대단히 크다고 하면 Af는 주로 무엇에 의해서 결정되는가?
- ①A
- ②
- ③
- ④
35.다음 연산증폭기 회로에서 RL에 흐르는 전류가 2.5[mA] 일때 RL 값은 몇 [kΩ] 인가?
- ①4[kΩ]
- ②5[kΩ]
- ③6.5[kΩ]
- ④7.2[kΩ]
36.RC 결합 저주파 증폭기에서 앞 단에 흐르는 전류 성분 중 다음 단으로 넘어가는 것은?
- ①직류분
- ②교류분
- ③직류뷴 + 교류분
- ④직류분 - 교류분
37.다음 중 fr(단위 이득 주파수)에 대한 설명으로 가장 적합한 것은?
- ①증폭기의 이득이 0[dB]가 되는 주파수
- ②증폭기의 이득이 10[dB]가 되는 주파수
- ③증폭기의 이득이 최대 이득에서 3[dB]가 떨어지는 주파수
- ④증폭기의 이득이 최대 이득에서 6[dB]가 떨어지는 주파수
38.트랜지스터 증폭기의 중간영역에서의 전류이득을 0[dB]라고 할 때 α 차단주파수에서의 전류이득은 몇 [dB] 인가?
- ①0[dB]
- ②-1[dB]
- ③-3[dB]
- ④-6[dB]
39.다음 중 직렬 전압 부궤한 회로의 특징으로 적합하지 않은 것은?
- ①전압 이득의 감소
- ②주파수 대역폭의 증가
- ③비직선 일그러짐의 감소
- ④입력 및 출력 임피던스의 증가
40.다음 중 연산증폭기의 응용 회로에 속하지 않는 것은?
- ①위상기
- ②가산기
- ③계수기
- ④적분기
41.2진수 1011.11을 10진수로 표시하면?
- ①101.6
- ②15.75
- ③11.75
- ④10.6
42.4단 하향 Counter에서 10번째 클럭펄스가 인가되면 각단이 나타내는 2진수를 10진수로 변환하면?
- ①6
- ②7
- ③8
- ④9
43.송신기가 ASCⅡ 코드 1100101을 홀수 패리티를 사용하여 전송한다면 11001011을 보내게 된다. 이 때, 수신측에서의 논리적인 검사방식에 주로 사용되는 논리회로는?
- ①AND
- ②NOT
- ③OR
- ④EX-OR
44.메모리에 새로운 워드를 저장시키려 한다. 올바른 순서는?
- ①㉠ - ㉡ - ㉢
- ②㉢ - ㉡ - ㉠
- ③㉠ - ㉢ - ㉡
- ④㉢ - ㉠ - ㉡
45.(4)10을 그레이 코드(Gray code)로 변환하면?
- ①0100(G)
- ②1100(G)
- ③0110(G)
- ④0010(G)
46.다음 중 10개의 플립플롭을 사용하여 만들 수 있는 카운터의 모듈러스 값과 최대 카운터 값으로 올바른 것은?
- ①10, 9
- ②100, 99
- ③1024, 1023
- ④1000, 999
47.다음 코드(code) 변환 회로의 명칭은?
- ①BCD-9의 보수 변환기
- ②BCD-3초과 코드 변환기
- ③BCD-2421 코드 변환기
- ④BCD-GRAY 코드 변환기
48.Toggling 상태를 이용한 플립플롭 형태는?
- ①RS 플립플롭
- ②D 플립플롭
- ③JK 플립플롭
- ④T 플립플롭
49.다음 논리식을 카르노 맵으로 올바르게 나타낸 것은?
- ①
- ②
- ③
- ④
50.마스터슬레이브 JK 플립플롭을 사용하는 이유는?
- ①지연시간을 짧게 하기 위해
- ②지연시간을 길게 하기 위해
- ③클럭펄스를 사용할 수 없을 때
- ④레이싱(racing) 현상을 없애기 위해
51.자기 보수성을 갖고 있는 코드 방식이 아닌 것은?
- ①3-초과코드 방식
- ②BCD코드 방식
- ③8421코드 방식
- ④2421코드 방식
52.다음 논리회로의 기능을 나타낸 이름 중 옳은 것은?
- ①인코더(encoder)
- ②디코더(decoder)
- ③반가산기(half-adder)
- ④전가산기(full-adder)
53.다음 진리표를 보고 논리식을 바르게 구한 식은?
- ①
- ②
- ③
- ④
54.그림과 같은 회로도의 출력 F는?
- ①
- ②
- ③
- ④
55.동기식 카운터와 비동기식 카운터를 비교 설명한 것 중 맞는 것은?
- ①동기식 카운터는 각 플립플롭의 colck에 동기되는 카운터이다.
- ②동기식 카운터는 비동기식 카운터에 비해서 안정되지 못하는 결점이 있다.
- ③동기식과 비동기식 카운터는 플립플롭에 공통으로 클럭(clock)이 공급된다.
- ④동기식 up-counter는 기억소자로 응용될 수 있다.
56.다음 그림의 파형이 Positive 에지 트리거 D플립플롭의 입력으로 들어간다. 플립플롭에서 클럭펄스(CLK) 후 출력(Q)의 값은?
- ①불변
- ②반전
- ③1
- ④0
57.논리 게이트의 특성을 결정하는 각 요인들에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
- ①논리 게이트의 입력 파형과 출력 파형 사이에 발생하는 시간 지연을 지연 시간이라 한다.
- ②논리 게이트의 입ㆍ출력 특성 곡선에서 입력전압에 대한 출력 전압의 High level과 Low level 사이의 전압차를 논리 스윙이라 한다.
- ③논리 회로가 취급할 수 있는 입력 단자의 수를 팬 인(fan-in)이라 한다.
- ④논리 회로가 취급할 수 있는 입력 단자의 수를 팬 아웃(fan-out)이라 한다.
58.2진 데이터를 펀치한 카드 덱크기 있다고 한다. 각 카드에는 24개의 36비트 어(WORD)가 들어있다. 만약 카드가 분당 600장의 속도로 읽힌다면 데이터가 계산기에 들어가는 속도는 초당 몇 비트인가?
- ①5184000
- ②17280
- ③8684
- ④4320
59.다음 그림의 캐스케이드 계수기의 구성에서 총 모듈을 구하면?
- ①36
- ②72
- ③144
- ④1536
60.다음 논리회로의 이름은?(정확한 내용을 아시는 분께서는 오류 신고를 통하여 내용작성 부탁드립니다. 정답은 4번입니다.)
- ①디코더
- ②인코더
- ③디멀티플렉서
- ④멀티플렉서
61.게이트 전압(VG)이 기판 전압(VB)보다 낮은 전위를 갖는 경우, MOS 구조의 동작 모드는?
- ①반전 모드(Inversion Mode)
- ②공핍 모드(Depletion Mode)
- ③증가 모드(Enhancement Mode)
- ④축적 모드(Accumulation Mode)
62.실제의 IC 소자들이 가지고 있는 지연 시간을 고려한 시뮬레이션 방법으로 특히, 여러 단이 종속적(cascade)으로 연결되었을 경우 최종 출력에서 발생하는 spike나 glitch 등을 방지하기 위한 방법은?
- ①타이밍 시뮬레이션(Timing Simulation)
- ②구조적 시뮬레이션(Structural Simulation)
- ③계층적 시뮬레이션(Hierarchical Simulation)
- ④기능성 시뮬레이션(Functionality Simulation)
63.다음 CMOS 공정 중에서 가장 먼저 하는 공정은?
- ①n-well 형성
- ②active 영역 정의
- ③metal 증착 및 배선
- ④소스, 드레인 확산 형성
64.다음 중 레이아웃 할 때 배선에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
- ①블록의 배치가 끝나면 블록 사이의 신호선의 연결, 즉 배선을 한다.
- ②전원과 접지선, 클럭 등 중요 신호선은 여타 신호선의 배선 후 마지막에 한다.
- ③전원과 접지선을 배선할 때에는 가능한 충분한 폭을 확보하는 것이 중요하다.
- ④타이밍 상 중요한 신호는 먼저 연결하여 짧은 배선이 가능하도록 한다.
65.MOS 논리회로의 특성 중 옳지 않은 것은?
- ①조합논리회로는 현재의 입력 값에 의해서만 출력이 결정된다.
- ②순차논리회로는 현재의 입력과 과거의 입력으로 출력이 결정된다.
- ③순차논리회로는 래치(latch)나 플립플롭의 기억소자를 포함한다.
- ④MOS 논리회로에서 용량성 노드는 고려할 필요가 없다.
66.N채널 증가형 MOSFET에서 드레인 전류를 흐르게 하려면 게이트 전압을 어떻게 해야 하는가?
- ①0 의 전위를 인가해야 한다.
- ②양(+)의 전압을 인가해야 한다.
- ③음(-)의 전압을 인가해야 한다.
- ④양(+), 음(-)의 전압에 관계없다.
67.VLSI 설계에서 강조되는 구조적 설계 원칙이 아닌 것은?
- ①정규성(Regularity)
- ②논리성(Logicality)
- ③모듈성(Modularity)
- ④국지성(Locality)
68.CMOS 제조 과정에서는 nMOS와 pMOS 트랜지스터를 만들 때 생기는 n 층과 p 층간의 결합(n-p-n-p 또는 p-n-p-n)에 의해 기생 트랜지스터가 구성되는데, 이 기생 트랜지스터가 결합되어 Vdd와 Vss 사이에 전류 통로가 형성되는 현상을 무엇이라 하는가?
- ①단락(Short)
- ②래치업(Latch-up)
- ③상호연결 기생요소
- ④ESD(Electrostatic Discharge)
69.다음 중 Integrated Circuit(IC)에 포함시키기가어려운 소자는?
- ①트랜지스터(Transistor)
- ②다이오드(Diode)
- ③코일(Coil)
- ④저항(Resistor)
70.결정 내의 스트레인과 결함을 줄이고, 단결정의 성장을 촉진시키기 위해 웨이퍼를 일정시간 온도가 높은 곳에서 의도적으로 넣어두는 것을 무엇이라 하는가?
- ①도핑(doping)
- ②어닐링(annealing)
- ③코팅(coating)
- ④테이퍼링(tapering)
71.다음 중 CMOS NAND 게이트의 구조에 대한 설명으로 옳은 것은?
- ①PMOS 쪽은 병렬, NMOS 쪽은 직렬로 트랜지스터들이 연결되어 있다.
- ②PMOS 쪽은 병렬, NMOS 쪽도 병렬로 트랜지스터들이 연결되어 있다.
- ③PMOS 쪽은 직렬, NMOS 쪽도 직렬로 트랜지스터들이 연결되어 있다.
- ④PMOS 쪽은 직렬, NMOS 쪽도 병렬로 트랜지스터들이 연결되어 있다.
72.2개 변수와 그 기능이 바르게 연결되지 않은 것은?
- ①
- ②
- ③
- ④
73.다음 모노리틱(Monolithic) IC의 제조과정 중 제일 마지막에 수행하는 공정은?
- ①에피택셜(Epitaxial) 성장
- ②산화막(Oxide) 생성
- ③알루미늄 증착
- ④불순물 확산
74.다음 중 VLSI 제작 과정이 옳은 것은?
- ①설계 규격 (→) 논리회로 설계 (→) 아키텍처 설계 (→) 레이아웃 설계 (→) 마스크 제작 (→) 칩 제작
- ②설계 규격 (→) 레이아웃 설계 (→) 논리회로 설계 (→) 아키텍처 설계 (→) 마스크 제작 (→) 칩 제작
- ③설계 규격 (→) 아키덱처 설계 (→) 레이아웃 설계 (→) 논리회로 설계 (→) 마스크 제작 (→) 칩 제작
- ④설계 규격 (→) 아키덱처 설계 (→) 논리회로 설계 (→) 레이아웃 설계 (→) 마스크 제작 (→) 칩 제작
75.베이스 폭이 3×10-3[cm] 일 때 펀치-슬로 전압Vpt가 7[V]인 PNP 트랜지스터에서 베이스 폭이 6×10-3[cm]으로 증가하면 Vpt는 얼마인가?
- ①25[V]
- ②26[V]
- ③27[V]
- ④28[V]
76.다음 사진 식각 공정을 이용한 산화막 식각 공정을 올바른 순서를 나열한 것은?
- ①㉮(→) ㉯(→) ㉰(→) ㉱(→) ㉲
- ②㉮(→) ㉰(→) ㉯(→) ㉱(→) ㉲
- ③㉮(→) ㉱(→) ㉯(→) ㉰(→) ㉲
- ④㉮(→) ㉱(→) ㉰(→) ㉯(→) ㉲
77.집적회로 구현을 위한 웨이퍼 제조 공정에 해당하지 않은 것은?
- ①현상 공정
- ②확산 공정
- ③박막 공정
- ④칩 테스팅 공정
78.MOS 구조의 전계효과 중 게이트 전압 VG가 크게 증가하면 전계의 증가에 의해 산화층과 실리콘의 경계 면에 소수 캐리어인 전자가 모이는 현상은?
- ①공핍 모드(Depletion mode)
- ②반전 모드(Inversion mode)
- ③축적 모드(Accumulation mode)
- ④바디 바이어스 효과(Body bias effect)
79.CMOS domino 로직회로를 사용할 때의 특성에 해당되지 않는 것은?
- ①팬 아웃(fan-out)은 항상 1 이다.
- ②EX-OR 와 같은 회로 구성으로 적합하다.
- ③인버터를 사용하므로 구동 능력이 늘어난다.
- ④같은 형태의 논리회로를 연속으로 연결할 수 있다.
80.CMOS 디저털 집적회로의 동적 전력소모에 대한 설명 중 옳지 않은 것은?
- ①전원 전압이 클수록 증가한다.
- ②동작 주파수가 클수록 감소한다.
- ③캐패시턴스 성분이 클수록 증가한다.
- ④전력소모가 크면 동작온도가 증가한다.